1．分散能力出色，具有极佳的深镀能力。

2．可以在室温下操作，电流效率可达25-28%。

3．使用液体引发剂，因此适用于各种铬酐。

4．溶液中铬酐浓度低。

5．无需分析控制，只需要通过简单的赫尔槽实验即可。

6．对于三价铬离子的忍耐性高，当三价铬离子的浓度达到20g/L时，赫尔槽试片仍有80%的覆盖率。

7．对于氯离子杂质的忍耐性高，对于其它杂质离子，如镍离子、铜离子也具有很强的忍耐性。

比重                               15-20波美度（铬酐为200g/l时，波美度为18）

温度                               30-40℃（最佳为3540℃）

电流密度                          5-20A/dm²

阳极                               铅/锡合金，93。7%

阳极面积                         最少为工件面积的2-3倍